YZQ特種氣體減壓裝置 產品說明

本實用新型針對上述問題，提供一種氣體減壓裝置，該裝置能夠對減壓后的氣體壓力及流速進行精確控制。氣體減壓閥是一種無需外加能源，利用被控介質自身能量當動力源、引入執(zhí)行膜室產生推力，控制節(jié)流元件運動達到自動調節(jié)。具有測量、執(zhí)行、控制的綜合功能。主要用于氣體管路，如空氣、氮氣、氧氣、氫氣、液化氣、天然氣、氨氣等氣體。屬于先導活塞式減壓閥。通過調節(jié)調節(jié)彈簧壓力設定出口壓力，利用膜片傳感出口壓力變化，通過導閥啟閉驅動活塞調節(jié)主閥節(jié)流部位過流面積的大小，實現(xiàn)減壓穩(wěn)壓功能。可在無氣、無電的場所。廣泛應用于石油、化工、電站、輕工、印染工業(yè)部門自控系統(tǒng)中各種設備氣體介質的減速壓、穩(wěn)壓（用于閥后壓力調節(jié)）的自動控制。根據用戶不同的工況條件可選用不同的閥芯結構型式以及不同執(zhí)行機構，以達到控制效果。由于氣體的流速比較快，選用氣體減壓閥時應該充分考慮氣體的特性，就此德國沃德工程師詳細介紹如下：

　特種氣體其中主要有：甲烷、乙烯、正戊烷、正丁烯、正丁烷、異戊烷、異丁烯、異丁烷、乙烷、一氧化碳、一氧化氮、一甲胺、一氟甲等。單一氣體有259種，其中電子氣體115種，有機氣體63種，無機氣體35種，鹵碳素氣體29種，同位素氣體17種。

特種氣體作用是什么？

特種氣體主要有電子氣體、高純氣體和標準氣體三種，廣泛應用 于電子半導體、化工、醫(yī)療、環(huán)保和裝備制造等L域。到目前為止，特種氣體中單元純氣體共有260種。下面為您做詳細介紹：

1、氮氣-N2,純度要求>99.999%,用作標準氣、在線儀表標準氣、校正氣、零點氣、平衡氣；用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、化學氣相淀積、離子注入、等離子干刻、光刻、退火、搭接、燒結等工序；電器、食品包裝、化學等工業(yè)也要用氮氣。

2、氧氣-O2,>99.995%,用作標準氣在線儀表標準氣、校正氣、零點氣；還可用于醫(yī)療氣；在半導體器件制備工藝中用于熱氧化、擴散、化學氣相淀積、等離子干刻等工序；以及用于光導纖維的制備。

3、氬氣-Ar,>99.999,用作標準氣、零點氣、平衡氣；用于半導體器件制備工藝中晶體生長、熱氧化、外延、擴散、氮化、噴射、等離子干刻、載流、退火、搭接、燒結等工序；特種混合氣與工業(yè)混合氣也使用氫。

4、氫氣-H2,>99.999%,用作標準氣、零點氣、平衡氣、校正氣、在線儀表標準氣；在半導體器件制備工藝中用于晶休生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等工序；在化學、冶金等工業(yè)中也有用。

5、氦氣-He,>99.999%,用作標準氣、零點氣、平衡氣、校正氣、醫(yī)療氣；于半導體器件制備工藝中晶體生長、等離子干刻、載流等工序；另外,特種混合氣與工業(yè)混合氣也常用。

6、氯氣-Cl2,>99.96%,用作標準氣、校正氣；用于半導體器件制備工藝中晶體生長、等離子干刻、熱氧化等工序；另外,用于水凈化、紙漿與紡織品的漂白、下業(yè)廢品、污水、游泳池的衛(wèi)生處理；制備許多化學產品。

7、氟氣-F2,>98%,用于半導體器件制備工藝中等離子干刻；另外,用于制備六氟化鈾、六氟化硫和金屬氟化物等。

8、氨氣-NH3,>99.995%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣；用于半導體器件制備工藝中氮化工序；另外,用于制冷、化肥、石油、采礦、橡膠等工業(yè)。

9、氯化氫-HCI,>99.995%,用作標準氣；用于半導體器件制備工藝中外延、熱氧化、擴散等工序；另外,用于橡膠氯氫化反應中的化學中間體、生產乙烯基和烷基氯化物時起氧氯化作用。

10、一氧化氮-NO,>99%,用作標準氣、校正氣；用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積主序；制備監(jiān)控大氣污染的標準混合氣。

11、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作標準氣、在線儀表標推氣、校正氣；于半導體器件制備工藝中氧化、載流工序警另外,還用于特種混合氣、發(fā)電、氣體置換處理、殺菌氣體稀釋劑、滅火劑、食品冷凍、金屬冷處理、飲料充氣、煙霧噴射劑、食品貯存保護氣等。

12、N2O,(即笑氣),>99.999%,用作標準氣、醫(yī)療氣；用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積、醫(yī)月麻醉劑、煙霧噴射劑、真空和帶壓檢漏；紅外光譜分析儀等也用。

13、硫化氫-H2S,>99.999%,用作標準氣、校正氣；用于半導體器件制備工藝中等離子干刻,化學工業(yè)中用于制備硫化物,如硫化鈉,硫化有機物；用作溶劑；實驗室定量分析用。

14、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作標準氣；用于半導體器件制備工藝中外延丫、化學氣相淀積等工序；另外,用作溶劑、有機物的氯化劑、香料的浸出劑、纖維的脫脂劑、滅火劑、分析試劑、制備氯仿和藥物等。

15、氰化氫-HCN,>99.9,用于半導體器件制備工藝中等離子干刻工序；氰氯化物；也用于制備丙烯睛和丙烯衍生物的合成中間體。

16、碳酰氟-COF2,>99.99%,用于半尋體器件制備工藝中等離子干刻工序；另外,用作氟化劑。

17、碳酰硫-COS,>99.99%,用作校正氣；用于半導體器件制備工藝中離子注入工序；也用于有些羧基、硫代酸、硫代碳酸鹽和噻唑的合成。

18、碘化氫-HI,>99.95%,用于半導體器件制備工藝中離子注入工序；還用于溶液制備。

19、嗅化氫-HBr,>99.9%,用于半導體制備工藝中等離子干刻工序；用作還原劑,制備有機及無機澳化合物。

20、硅烷-SiH4,>99.999%,電阻率>100Ω/cm2,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積等工序。

21、乙硅烷-Si2H6,>99.9%,用于半導體制備工藝中化學氣相淀積。

22、磷烷-PH3,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、化學氣相淀積、離子注入等工序；磷烷與二氧化碳混合的低濃度氣體,可用于殺死糧倉的蟲卵和制備阻火化合物。

23、砷烷-AsH3,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、化學氣相淀積、離子注入等工序。

24、B2H6,>99.995%,用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、氧化等工序；用于有些化學工業(yè)合成過程:如氫硼化反應(即生成醇類),有機功能的衰退,制備較高的化合物。

25、鍺烷-GeH4,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、離子注入工序。

26、銻烷-SbH3,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、離子注入工序。

27、四氧甲硅烷-Si(OC2H5)4,>99.99%,用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積工序。

28、乙烷-C2H6,>99.99%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣；用于半導體器件制備工藝中等離子干刻工序；還用于冶金工業(yè)的熱處理,化學工業(yè)中制備乙醇、氧化乙二醇、氯乙烯、高醇類、乙醛等。

29、丙烷-C3H8,>99.99%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣；用于半導體器件制備工藝中等離子干刻工序；另外,用于燃料、冷凍劑、制備乙烯與丙烯的原料。

30、硒化氫-H2Se,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。

31、碲化氫-H2Te,>99,999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。

32、二氯二氫硅-SiH2Cl2,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積工序。

33、三氯氫硅-SiHCl3,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積工序。

34、二甲基碲-(CH3)2Te,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。

35、二乙基碲-(C2H5)2Te,>99.999%,用途同(34)。

36、二甲基鋅(CH5)2Zn,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積工序。

37、二乙基鋅(C2H5)2Zn,>99.999%,用途同(36)。

38、PCl3,>99.99%,用于半導體器件制備工藝中擴散,鍺的外延生長和離子注入工藝；PCl3是有機物的良好氯化劑；也用于含磷有機物的合成。

39、-AsCl3,>99.99%,用于半導體器件制備工藝中的外延和離子注入。

40、三氯化硼-BCl3,>99.99%,用于等離子干刻、擴散；作硼載氣及一些有機反應的催化劑；精煉鎂、鋅、鋁、銅合金時從溶化金屬中除掉氮、碳、氧化合物。

41、四氯化硅-SiCl4,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積工序。

42、四氯化錫-SnCl4,>99.99%,用于外延、離子注入。

43、四氯化鍺-GeCl4,>99.999%,用于離子注入。

44、四氯化欽-TiCl4,>99.99%,用于等離子干刻。

45、PCl5,>99.99%,用于外延、離子注入。

46、-Sb=Cl5,>99.99%,用于外延、離子注入。

47、六氯化鑰-MoCl6,>99.9%,用于化學氣相淀積。

48、三嗅化硼-BBr3,>99.99%,用于半導體器件制備工藝中離子注入工序和制備光導纖維。

49、三嗅化磷-PBr3,>99.99%,用于外延、離子注入。

50、磷酞氯-POCI3,>99.999%,用于擴散工序。

51、-BF3,>99.99%,用于離子注入；另外,可作載氣、某些有機反應的催化劑；精煉鎂、鋅、鋁、銅合金時從熔化金屬中除掉氮、氧、碳化物。

52、三氟化磷-PF3,>99%,用于外延、離子注入工序；另外用作氟化劑。

53、三氟化砷-AsF3,>99.9%,用途同(52)。

54、二氟化氨-XeF2,>99.9%,用于外延、離子注入工序；用于固定模具氨的考察及原子反應堆排放廢氣中氮的測定。

55、三氟氯甲烷-CClF3,(R-13),>99.995%,用于等離子干刻工序；冷凍劑、空調均可用。 56.三氟甲烷-CHF3,(R-23),>99.999%,用于等離子干刻工序;低溫冷凍劑。

56、三氟化氮-NF3>99.99%,用于等離子干刻工序;火箭推進劑、氟化劑。

57、三氟嗅甲烷-CBrF3,(R13B1),>99.99%,用于等離子干刻工序;還用于空調、低溫冷凍及滅火劑。

58、11-B11F3,>99.99%,用于離子注入工序(天然硼的同位素,含11B8l%,10B19%。出售的11B是濃縮含有96%同位素BF3);還用于制備光導纖維。

59、-11-B11F3,>99.99%,用于離子注入工序(天然硼的同位素,含11B8l%,10B19%。出售的11B是濃縮含有96%同位素BF3);還用于制備光導纖維。

60、四氟化碳-CF4,(R-14),>99.99%,用于等離子干刻工序;在很低溫度下作為低溫流體用;也用于中性及惰性氣體。

61、四氟化硫-SF4,>98%,用于等離子干刻工序;氟化劑、表面處理劑。

62、四氟化硅-SiF4,>99.99%,用于化學氣相淀積工序;制備氟硅酸及其鹽類。

63、四氟化鍺-GeF4,>99.999%,用于離子注入工序。

64、五氟化磷-PF5,>99.9%,用于離子注入、等離子干刻工序;另外,用作氟化劑,聚合、烴化及脫烴化反應、烴類裂化反應時作催化劑。

65、五氟氯乙烷-C2ClF6,(R-115),>99.99%,用于等離子干刻工序;另外,作冷凍劑、煙霧噴氣劑。

66、五氟化砷-AsF5,>99%,用于外延、離子注入工序,氟化劑。

67、六氟乙烷-C2F6,(R-116),>99.99%,用于等離子干刻工序;用作冷卻、冷凍劑和空調;單體生產的原料;化學反應中的添氟劑、電器設備的絕緣劑。

68、六氟化硫-SF6,>99.99%,用作標準氣;用于化學氣相淀積工序;由于在高電壓下具有很高的電阻,用作電器設備的絕緣劑;檢漏氣體,實驗室中作色譜儀的載氣。

69、六氟化鎢-WF6,>99.99%,用于化學氣相淀積工序;強烈的氟化劑;也用作鎢載體。

70、六氟化氧-(CF3)2O2,>99.99%,用于等離子干刻工序。

71、六氟乙酰-(CF3)2CO,>99.99%,用途同(70)。

72、六氟乙酞氧-(CF3CO)2O,>99.99%,用途同(70)。

73、六氟化錸-ReF6,>97%,用于離子注入工序;氟化劑。

74、八氟丙烷-C3F8,(R-218),>99.9%,用于等離子干刻工序;與氟利昂相混合作冷凍劑;高壓電的絕緣劑。

75、八氟環(huán)丁烷-C4F8,(RC318),>99.99%,用于等離子干刻工序;用作冷卻劑、冷凍劑;作電器和電子設備的氣體絕緣。

76、十二氟戊烷-C5F12,>99.9%,用于等離子干刻工序;也可與CF4相混用。

77、三甲基鋁-(CH3)3Al,>99.999%,用于化學氣相淀積工序;金屬的有機合成。

78、三甲基鎵-(CH3)3Ga>99.999%,用途同(77)。

79、三甲基銻-(CH3)3Sb,>99.999%,用途同(77)。

80、三甲基錮-(CH3)3In,>99.999%,用途同(77)。

81、三乙基鋁-(C2H5)3Al,>99.999%,用途同(77)。

82、三乙基鎵-(C2H5)3Ga,>99.999%,用途同(77)。

83、-(C2H5)4Pb,>99.999%,用于化學氣相淀積工序。

84、丙烯腈-C3H3N,>99.9%,用于等離子干刻工序。

85、1,1,2-三氯乙烯-C2HCl3,>99.99%,用作標準氣、校正氣、醫(yī)療氣;用于半導體器件制備工藝中熱氧化工序;另外,用于金屬的脫脂劑和脂肪、油、石蠟等萃取劑,衣服干洗,冷凍劑,殺菌劑。

86、甲烷-CH4,99.999%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣;作燃料、宇宙飛船中氣體電池。

87、甲烷硫醇-CH3SH,>99.5%,用作標準氣、校正氣;用于有機合成;作為噴氣燃料添加劑,殺真菌劑和蛋氨酸的中間體。

88、一甲胺-CH3NH2,>99%,用于硫化促進劑、藥物、染料和等,并作溶劑、有機合成、醋酸人造纖維。

89、甲醇-CH3OH,>99.9%,用作標準氣,與空氣混合后作校正氣;用于制備甲醛和農藥鄉(xiāng)用于有機物質的萃取劑和酒精的變性劑。

90、二甲胺-(CH3)2NH,>99%,用作抗氧化劑;在溶液中作浮洗.劑、汽油穩(wěn)定劑、橡膠加速劑等。

91、二甲醚-(CH3)2O,>99.9%,在化學工業(yè)中用作配制合成橡膠和甲硫醚;用作甲基劑、萃取劑、溶劑;也用作制冷劑。

92、乙炔-C2H2,>99.9%,用作標準氣、校正氣;化學工業(yè)中的中間體,如制備乙烯、乙醛、醋酸乙烯、氯乙烯、乙烯醚等;用于原子吸收光譜。

93、乙烯-C2H4,>99.99%,用作在線儀表標準氣、標準氣、校正氣;是化學 工業(yè)合成中的重要原料,生產塑料的中間體,生產乙醇、醋酸、氧化乙烯、氯乙烯、乙苯等的原料;也用于焊接和切割、冷凍劑、某些水果、蔬菜生長的加速劑。

94、氧化乙烯-C2H4O,99.9%,用作標準氣、校正氣、醫(yī)療氣;與CO2、R11、R21相混合作消毒劑,文物保管,皮革消毒,清洗衣料均可采用;化學工業(yè)中用作中間體,生產液體或固體聚乙二醇、乙醇胺類等。

95、溴代乙烯-C2H3Br,>99.9%,用作有機合成的中間體,用聚合法與共聚法來制備塑料。

96、一乙胺-CH3CH2NH2,>99%,水溶液中含有70%乙胺,作為下列化學工業(yè)制備中的中間體:著色劑,電鍍池、硫化增速劑等;還用于制藥、表面活性劑、萃取劑。

97、四氟乙烯-C2F4,>99%,在生產塑料時作為一種重要的單體,如泰氟隆等。

98、乙醛-CH5CHO,>99.9%,用作校正氣;用于制備酷酸、醋醉、醋酸乙酷、正丁醇、合成樹脂等。

99、二甲基-CH3S2CH3,＞99.9%,用作校正氣、溶劑。

100、二甲基硫醚-CH3SCH3>99.9%,用作校正氣、溶劑。 101.乙醇-C2H5OH,>99.9%,用作校正氣;用于溶劑,制備染料、涂料、藥物、合成橡膠等。

102、乙酰氯-CH3COCl,99.99%,用于乙酰化劑和化學試制。

103、1-羥亞乙基-1,1雙磷酸-C2H8P2O7,>99.99%,簡稱HEDPA,用于特殊的洗滌、紡織漂白分離劑、磨料和環(huán)境衛(wèi)生;在石油和氣田中用作防腐劑。

104、環(huán)丙烷-(CH2)3,>99%,用于有機合成;醫(yī)藥上作麻醉劑。

105、甲基乙炔-C3H4>99%,用作在線儀表標準氣、校正氣;用于制備丙酮;化學工業(yè)中作合成中間體。

106、CF3COCF3,>99.9%,是強烈的反應氣,常與脂肪酮發(fā)生化學反應,用這些酮類可制備不同的產品,如穩(wěn)定的液體、溶劑、水泥、單體、共聚物,以及農業(yè)及藥物產品。

107、三甲胺-(CH3)3N,>99%,用作標準氣,溶液中含25%的三甲胺可作抗組胺治療處理;在化學工業(yè)中作中間體,用來生產殺蟲劑、潤濕劑、發(fā)泡劑、合成樹脂等表面活性劑。

108、丙烯-C3H8,>99.9%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣;在化學工業(yè)上用作制備異丙醇、氧化丙烯、氧基醇類、四氯化碳、聚丙烯等。

109、丙二烯-C3H4,99%,在線儀表標準氣;用于有機合成中間體。

110、氧化丙烯-C3H6O,>99.9%,(又稱1,2-環(huán)氧丙烷),用于制備丙二醇和泡沫塑料;也是醋酸纖維素、硝酸纖維素和樹脂等的溶劑。

111、甲基乙烯醚-CH3COCH3,>99.5%,用作標準氣;用于有機合成中間體;塑料和合成樹脂制備時的原料及共聚物的生產。

112、六氟丙烯-C3F6,>99.9%,用于有機合成中間體。

113、CH3CH2COCl,＞99.9%,用于制備鹽酸、丙酸;用作氧化劑。

114、正丁烷-C4H10,>99.99%,用作標準氣、校正氣;用作燃料,商業(yè)上主要和異丁烷混合用;化學工業(yè)中作制備中間體:乙烯、丙烯、丁烯等;作煙霧噴射劑;充入溫度計球作標準蒸汽壓型的壓力表;與氦混合用作電離粒子計算器。

115、異丁烷-iC4H10,>99.99%,用作標準氣、校正氣;用途同(114)。

116、乙基乙炔-C4H5,>99%,用作標準氣、校正氣;化學工業(yè)中作為合成中間體。

117、環(huán)丁烷-(CH2)4,>99%,作為液體溶劑,或與其它溶劑混合使用;也可作為合成中間體。

118、丁烯-1-C4H8,>99.9%,用作標準氣、校正氣;用于有機化合物的制備中間體;催化脫氫生成丁二烯。

119、順丁烯-2C4H8,>99%,用作標準氣、校正氣;用于有機化合物的制備中間體;催化脫氫生成丁二烯、酸式硫酸鹽,加水生成丁醇-2等;也可用作溶劑。

120、反丁烯-2-C4H8,>99%,用作標準氣、校正氣;用途同(119)。

121、順與反丁烯-2-C4H8,>99%,用作校正氣;用途同(119)。塑料和樹脂,生產尼龍-6;也是火箭燃料組成部分。

122、1,3丁二烯-C4H6,>99%,用作校正氣;用聚合法和共聚法來生產合成橡膠、塑料和樹脂,生產尼龍-66;也是火箭燃料組成部分

123、異丁烯-iC4H8,>99.9%,用作校正氣,用于有機中間體,使氧化產生丙酮和甲酸,在液相或氣相中催化使生成雙異丁烯等;也可用來制備合成橡膠,有很高的耐酸堿度;是良好的絕緣體。

124、八氟-2-丁烯-C4H8(全氟丁烯),>99.5%,用于有機合成中間體。

125、二甲乙基胺-(CH3)2NC2H5,99.99%,一接觸到氧化劑,反應劇烈;與二氧化碳混合,遇到汞會產生爆炸反應。

126、正戊烷-C5H12,>99%,用作標準氣、校正氣;作溶劑及合成中間體。

127、異戊烷-iC5H12,>99%,用作校正氣;用途同(126)。

128、2,2二甲基丙烷-C5H12,(又叫新戊烷),>99.9%,是生產異丁烯的原料,用于生產合成丁烯橡膠。

129、3-甲基-1-丁烯-C5H10,(甲基丁烯),>99.95%,用于有機合成中間體;也用于增加燃料的辛烷值;用于塑料的聚合。

130、特戊酰氯-(CH3)3CCOCl,>99.99%,可制備氯化氫與特戊酸;可與強氧化劑反應。

131、苯-C5H6,>99.999%,用作標準氣、校正氣、零點氣;是染料、塑料、合成像膠、合成樹脂、合成纖維、合成藥物和農藥的原料。

132、己烷-C6H14,>99.9%,用作標準氣、校正氣;作溶劑。

133、三乙基鋁三氯-C6H15 Al2Cl3,>99.99%,用于合成中間體;烯類聚合催化劑,芳烴衍生物聚合的催化劑。

134、環(huán)己烷-C6H12,>99.99%,用作標準氣;用于制備環(huán)己醇和環(huán)己酮;用于合成耐6;在涂料工業(yè)中廣泛用作溶劑,也是樹脂、脂肪、石蠟、油類的溶劑。

135、己二酞氯-ClOC(CH2)4COCl,>99.99%,用于制備氯化氫與肥酸。

136、甲苯-C7H8,,>99.99%,用作零點氣、校正氣;用于制造糖精、染料、藥物和等;也用作溶劑。

137、苯乙烯-C8H8,,>99.9%,用作校正氣;用于制樹脂、塑料、合成橡膠等。

138、2-乙基己酰氯-C5H10,C2H5,COCl,>99.9%,可用于制備氯化氫和2-乙基己酸。

139、辛酰氯-CH3,(CH2,)6COCl,>99.9%,是氧化劑;可用于制備鹽酸與辛酸。 140.氨基咪哇酮-C9H15,N3O3,>99.9%,用作還原劑。

141、壬酰氯-CCH3(CH2)7COCl,>99.9%,用于制備鹽酸與壬酸。

142、新癸酰氯-C10H19OCl,>99.9%,用于制備鹽酸與新癸酸。

143、三異丁基鋁-C12H27,Al,(簡稱TIBA),>99.99%,用于合成中間體,是聚合烯類和二烯類的催化劑。

144、十二酰氯-CH3(CH2)10COCl,>99.9%,用于制備鹽酸與月桂酸。

145、十八酰氯-CH3(CH2)18COCl,＞99.9%,用于制備鹽酸與硬醋酸。

146、黃-C20H14O4,>99.9%,醫(yī)療用作瀉藥。

147、空氣(或合成空氣)-21%O2,79%N2,用作零點氣,超零點級空氣中含CnHm<0.lppm,零點級空氣中含CnHm<0.2ppm。零點級空氣經常用于色譜儀火焰離子化檢定器和總碳量分析儀中的氧化劑。

148、仲氫-H2,>99.99%,用作火箭推進劑;核工業(yè)中用于氣泡室;冷電子工程低溫液態(tài)供固體電路研究用。

氣體減壓閥（ reducing valve）是采用控制閥體內的啟閉件的開度來調節(jié)介質的流量，將介質的壓力降低，同時借助閥后壓力的作用調節(jié)啟閉件的開度，使閥后壓力保持在一定范圍內，在進口壓力不斷變化的情況下，保持出口壓力在設定的范圍內，

（1） 調壓范圍：它是指減壓閥輸出壓力P2的可調范圍，在此范圍內要求達到規(guī)定的精度。調壓范圍主要與調壓彈簧的剛度有關。

（2） 壓力特性：它是指流量g為定值時，因輸入壓力波動而引起輸出壓力波動的特性。輸出壓力波動越小，減壓閥的特性越好。輸出壓力必須低于輸入壓力—定值才基本上不隨輸入壓力變化而變化。

（3） 流量特性：它是指輸入壓力—定時，輸出壓力隨輸出流量g的變化而變化的持性。當流量g發(fā)生變化時，輸出壓力的變化越小越好。一般輸出壓力越低，它隨輸出流量的變化波動就越小。

工作原理及結構：

減壓閥出廠時，調節(jié)彈簧處于未壓縮狀態(tài),此時主閥瓣和付閥瓣處于關閉狀態(tài),使用時按順時針轉動調節(jié)螺釘,壓縮調節(jié)彈簧,使膜瓣移頂開付閥瓣,介質由a孔通過付閥座到b孔進入活塞上方,活塞在介質壓力的作用下,向下移動推動主閥瓣離開主閥座,使介質流向閥后.同時由c孔進入膜片下方,當閥后壓力超過調定壓力時,推動膜片上移壓縮調節(jié)彈簧,付閥瓣隨之向關閉方向移動,使流入活塞上方的介質減小,壓力也隨之下降,此時的主閥瓣在主閥瓣彈簧力的推動上下移,使主閥瓣與主閥座的間隙減小,介質流量也隨之減小,使閥后壓力也隨之下降到新的平衡,反之當閥后壓力低于調定壓力時,主閥瓣與主閥座的間隙加大,介質流量也隨之增加,使閥后壓力也隨之增高達到新的平衡.

按照本實用新型的技術方案：一種氣體減壓裝置，其特征在于：包括進氣管接頭，進氣管接頭的出氣端與減壓閥的進氣端密封連接，減壓閥的出氣端密封連接比例閥安裝塊，比例閥安裝塊上安裝比例閥，比例閥安裝塊的出氣端密封連接氣路通道，氣路通道的出氣端密封連接出氣通道，出氣通道密封連接出氣管接頭，所述出氣通道的壓力檢測接口連接軟管，軟管的另一端連接到差壓傳感器的一個檢測口，差壓傳感器的另一個檢測口連接大氣。

在高壓氣源進入減壓裝置后，減壓閥2將氣源壓力降低到4Bar的壓力范圍內，起到保護比例閥3和穩(wěn)定氣壓的作用。出氣管接頭13采用可以更換的寶塔接頭，可以根據需要連接的檢測設備跟換合適的接頭，甚至可以跟換Y型接頭，供兩臺檢測設備同時使用。

本實用新型的技術效果在于：本實用新型可將壓縮氣體從高壓狀態(tài)減壓成常壓狀態(tài)，并能精確控制出口端的氣體壓力和流量。采用壓力檢測的方式控制流量，避免了不同類型的氣體因為密度、比熱容等特性的不同而需要用不同的參數(shù)進行修正的限制，具有操作簡單，實用性強的特點。

YZQ特種氣體減壓裝置壓力參數(shù)

減壓閥流量系數(shù)(Cv)

主要零件材料

外形尺寸(PN1.6-4.0)單位：mm

外形尺寸(PN6.4-16.0) 單位：mm

本實用新型屬于氣體減壓設備技術領域，涉及一種氣體減壓裝置，包括進氣管接頭，進氣管接頭的出氣端與減壓閥的進氣端密封連接，減壓閥的出氣端密封連接比例閥安裝塊，比例閥安裝塊上安裝比例閥，比例閥安裝塊的出氣端密封連接氣路通道，氣路通道的出氣端密封連接出氣通道，出氣通道密封連接出氣管接頭，所述出氣通道的壓力檢測接口連接軟管，軟管的另一端連接到差壓傳感器的一個檢測口，差壓傳感器的另一個檢測口連接大氣。該裝置能夠對減壓后的氣體壓力及流速進行精確控制。調節(jié)調節(jié)彈簧壓力設定出口壓力、利用膜片傳感出口壓力變化，通過導閥啟閉驅動活塞調節(jié)主閥節(jié)流部位過流面積的大小，實現(xiàn)減壓穩(wěn)壓功能。

壓力調整步驟

按照以下步驟慢慢轉動調節(jié)螺絲，即可完成設定。不當?shù)恼{整操作可能形成水擊或砰砰作響聲等，可能對減壓閥或其他設備造成損壞。

（1）關閉減壓閥前后截斷閥，在保證安全閥不起跳的情況下，開啟旁路管線截斷閥并保持足夠的時間，以完成利用流通介質對管道中的異物或銹層的吹掃去除。吹掃完成后，關閉旁路管線截斷閥。

（2）緩慢打開安裝在減壓閥前的截斷閥，并調整減壓閥后截斷閥的開啟度，保持管道有小流量通過。

（3）松鎖緊螺母，緩慢轉動調整螺絲，并觀察閥后的壓力表，直到要求的設定植為止（順時針轉動壓力上升，逆時針轉動壓力下降）。對于帶手柄的型號，由于正常狀態(tài)下，手柄處于自鎖位置，因此調整壓力時，應首先按下手柄，松開自鎖，再緩慢轉動調整螺絲，并觀察閥后的壓力表，直到要求的設定植為止（順時針轉動手柄時，閥后壓力上升；逆時針轉動手柄時，閥后壓力下降。

（4）緩慢打開減壓閥后截斷閥，并按照步驟（3）進一步調整閥后壓力，直到要求的設定植為止。

（5）完成調整后，擰緊鎖緊螺母。對于帶手柄的型號，拉出手柄，利用內部裝置鎖緊；如果手柄沒有鎖緊，左右轉動手柄，即可完成自鎖動作。

開啟    

1、檢查氣瓶閥門和減壓器密封性，確認良好后進行下步操作。    

2、把減壓器調節(jié)螺桿逆時針方向旋轉到調節(jié)彈簧不受壓力為止，此時低壓表讀數(shù)為零。    3、逆時針方向緩慢轉動氣瓶閥門，直到高壓表指示出瓶壓讀數(shù)。此操作期間不要站在減壓器的正面或背面。    

4、順時針方向旋轉減壓器調節(jié)螺桿，直到低壓表達到所需的工作壓力。如果壓力過高，則旋送調節(jié)螺桿，放出部分氣體后重新調節(jié)。    

二、關閉    

1、沿順時針方向轉動氣瓶閥門至*關閉。    

2、打開設備上的閥門將減壓器內的氣體全部排出，然后關閉閥門。    

3、逆時針方向旋轉減壓器調節(jié)螺桿到調節(jié)彈簧不受壓力為止，此時低壓表、高壓表讀數(shù)均為零。

訂貨須知：

一、①產品名稱與型號②口徑③是否帶附件以便我們的為您正確選型④的使用壓力⑤的使用介質的溫度。
二、若已經由設計單位選定公司的型號，請按型號直接向我司銷售部訂購。

三、當使用的場合非常重要或環(huán)境比較復雜時,請您盡量提供設計圖紙和詳細參數(shù)，由我們的閥門公司專家為您審核把關。如有疑問：請：我們一定會盡心盡力為您提供優(yōu)質的服務。提供全面、專業(yè)的“閥門系統(tǒng)解決方案"，也十分愿意幫助用戶解決生產中所遇到的難題。